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M9/M10覆铜板价值增量:球形硅微粉(球硅)供应商梳理

(来源:伏白的交易笔记 伏白的交易笔记)

一. 驱动逻辑

随着英伟达Rubin架构升级,CCL等级从M7/M8向M9/M10跃迁,对CCL填料硅微粉的纯度、粒径、球形度、杂质控制等性能要求同步提高。

(1)技术升级

性能要求:升级为化学法球硅,粒径从5-20μm(微米级)降至2-3μm(亚微米级)、0.5-1μm(纳米级);纯度提升至99.99%(4N级),球化率≥99%。

表面改性:从普通硅烷偶联剂,升级为适配高阶树脂体系的低介电、高分散定制改性。

(2)价值量及用量提升

M5角硅、M6火焰法球硅、M7/M8爆燃法球硅、M9/M10化学法球硅单价依次抬升;性能升级推动球硅单价提升5-10倍。

同时,填充比例从M6的20-25%提升至M7/M8的25%-30%,M9进一步升至35%-40%

二. 硅微粉概览

硅微粉是高纯二氧化硅超细粉体材料,由天然石英或熔融石英经破碎、研磨、提纯、改性等工艺制备而成,是电子材料领域用量最大的无机功能填料。

2.1 按形态分类

(1)角形硅微粉:颗粒呈不规则棱角状、流动性较差、填充密度低、成本低;用于低端覆铜板、环氧塑封料、绝缘材料等场景。

(2)球形硅微粉:颗粒呈球状、流动性好、填充密度高、成本高;用于高端覆铜板、IC载板、先进封装等场景。

2.2 球硅制备工艺

(1)火焰熔融法(物理法):将角形硅微粉送入高温火焰,使其熔化并收缩成球状;行业主流工艺,可制备微米级产品。

(2)等离子体法(物理法):利用等离子体高温场熔融粉体颗粒(温度更高),纯度更高、粒径更窄,可制备亚微米级产品。

(3)爆燃法(化学法:单质硅粉在氧气中燃烧反应,生成熔融液滴并自然球化,可制备亚微米级产品,适配M7-M8级CCL。

(4)溶胶凝胶法(化学法):采用化学合成工艺,成本最高,可制备纳米级产品,适配M9级及以上CCL。

2.3 CCL应用环节

覆铜板是PCB核心基材,由铜箔、树脂、玻纤布复合制备而成,硅微粉作为功能填料,在树脂胶液配制阶段加入:

(1)按配方将硅微粉与树脂、固化剂、促进剂、溶剂等混合,形成均匀胶液。

(2)用胶液浸渍玻纤布,烘干去除溶剂制成预浸料。

(3)将多层预浸料与铜箔叠合,经高温高压层压成型为覆铜板成品。

2.4 核心作用

(1)优化介电性能:SiO₂高绝缘电阻、低介电常数,提升覆铜板绝缘性。

(2)调节热学性能:SiO₂的热膨胀系数远低于树脂,大幅降低整体CTE。

(3)提升机械强度:提高板材硬度、弯曲强度和抗冲击性。

(4)降低CCL成本:高比例填充,减少高阶树脂用量,优化成本结构

三. 全球供应格局

全球高端球硅市场被日企垄断,龙森、电化、新日铁三家合计占据70%份额;国内少数企业实现技术突破,进入全球第一梯队。

联瑞新材:球形硅微粉国内龙头,产能全球第二,掌握熔融法、化学法全工艺路线,产品覆盖M6-M9全品级,通过斗山、台耀M9认证。

凌玮科技:主营纳米二氧化硅材料,收购江苏辉迈布局化学法球硅,适配M9级CCL,目前处于客户验证阶段。

国瓷材料主营高端陶瓷材料,化学法球硅处于客户验证阶段,已通过台光M9认证。

雅克科技:主营半导体前驱体、阻燃剂,子公司华飞电子布局球硅,覆盖半导体塑封料、M7-M8级CCL场景

壹石通:主营无机非金属材料,包括球硅、球铝,主要供应生益、南亚等国内头部CCL厂商。

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