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盛美上海取得干燥介质系统相关专利，超临界干燥介质回收系统实现二氧化碳回收

创始人 更新于 2026-02-26 09:14:19 首发于 2026-02-26 09:15:39 街坊资讯 0

2月26日消息，国家知识产权局信息显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“干燥介质回收系统和半导体干燥设备”的专利，授权公告号CN119146719B，授权公告日为2026年2月24日。申请公布号为CN119146719A，申请号为CN202310725044.X，申请公布日期为2026年2月24日，申请日期为2023年6月16日，发明人曾娟、金银花、王文军、张晓燕，专利代理机构上海专利商标事务所有限公司，专利代理师骆希聪，分类号F26B25/00、F26B5/16、B01D5/00。

专利摘要显示，本申请涉及一种超临界干燥介质回收系统和半导体晶圆干燥设备。该超临界干燥介质回收系统包括分离装置，分离装置包括冷凝管路和第一腔体，冷凝管路的下侧壁设置有排液口，排液口与第一腔体连通，冷凝管路的进口用于接收含有有机溶剂的干燥介质，冷凝管路的出口用于排放分离之后的干燥介质以便进行回收；其中，冷凝管路用于对含有有机溶剂的干燥介质中的有机溶剂进行冷凝，以使有机溶剂冷凝成液态从排液口流入至第一腔体。通过本申请解决了相关技术中如何回收干燥晶圆过程中的二氧化碳的问题，实现了干燥晶圆过程中的二氧化碳回收。

天眼查数据显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司成立日期2005年5月17日，法定代表人HUI WANG，所属行业为专用设备制造业，企业规模为大型，注册资本48016.4789万人民币，实缴资本37264.99万人民币，注册地址为中国（上海）自由贸易试验区丹桂路999弄5、6、7、8号全幢。盛美半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目172次，财产线索方面有商标信息39条，专利信息672条，拥有行政许可31个。

盛美半导体设备（上海）股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1基片湿法处理装置及基片处理设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511696240.42025-11-19CN121149062A2025-12-16李亚洲、贾社娜、王俊、林金木、方波、李昱
2一种传感器校准装置及基板清洗机发明专利公布CN202511565215.22025-10-30CN121540106A2026-02-17陈远、赵运翔、何西登
3基板处理装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511376375.22025-09-25CN120878605A2025-10-31苏政、贾社娜、邓新平
4处理液供给机构及涂覆装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511292109.12025-09-11CN120790418A2025-10-17程成、吴均、赵中旭、徐飞、王坚、李康植
5供液装置、清洗装置、清洗方法及计算机可读介质发明专利授权CN202511292108.72025-09-11CN120767230B2026-01-27苏政、贾社娜、李彬、邓新平
6排气用防腐组件及炉管设备发明专利授权CN202511100391.92025-08-07CN120591755B2025-12-12段航、周冬成
7单片晶圆干燥设备及干燥方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510873904.32025-06-27CN120403215A2025-08-01谢翔、张晓燕、胡海波、陶泽魏、李兴、宗源
8薄膜沉积装置及薄膜沉积方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510874680.82025-06-27CN120366747B2025-09-23戴明宇、周培垄、李天天、费红财、陈更明、成康、金京俊
9基片盒存储装置、工作方法及基片处理设备发明专利授权、公布CN202510780743.32025-06-12CN120319704B2025-10-17许创威、贾社娜、张大海
10密封件外观专利授权CN202530280752.72025-05-19CN309744402S2026-01-23付延奇、贺斌、杨配贤、崔玉民
11双级溅液监测系统、方法及计算机可读介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510594876.12025-05-09CN120127033B2025-08-15谢翔、张晓燕、胡海波、陶泽魏、宗源
12晶圆卡匣调整装置及晶圆浸泡装置发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510526003.72025-04-25CN120072715B2025-07-25王双五、苏飘、朱国辉、宗源、胡海波、张晓燕
13化学液供应系统、换液方法、基板处理装置和介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510432151.22025-04-08CN119934438B2025-08-08陶泽魏、胡海波、张晓燕
14化学液供应系统、换液方法、基板处理装置和介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510432151.22025-04-08CN119934438B2025-08-08陶泽魏、胡海波、张晓燕
15炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510312070.92025-03-17CN119824390B2025-07-11杨扬、贾社娜、张大海
16炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510312070.92025-03-17CN119824390B2025-07-11杨扬、贾社娜、张大海
17进气管及炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510295477.52025-03-13CN119800332B2025-07-04蒯蔚、周冬成、蒋攀辉
18进气管及炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510295477.52025-03-13CN119800332B2025-07-04蒯蔚、周冬成、蒋攀辉
19基板处理设备及方法发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510114602.82025-01-23CN120143565A2025-06-13徐飞、李康植、吴均、杨仁政、程成、王坚
20晶圆缓冲层边缘的清洗方法和设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510066274.92025-01-16CN119480619B2025-04-25戴奔、刘畅、仰庶、张晓燕
21晶圆缓冲层边缘的清洗方法和设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510066274.92025-01-16CN119480619B2025-04-25戴奔、刘畅、仰庶、张晓燕
22基板处理装置发明专利实质审查的生效、公布CN202411383228.32024-09-29CN120033106A2025-05-23王晖、陶晓峰、黄天宇、韩阳、何西登、贾社娜、刘文博、张晓燕、胡海波、刘阳、吴杨
23用于方形基板的卡盘发明专利实质审查的生效、公布CN202411358048.X2024-09-26CN121192044A2025-12-23王晖、王坚、吴均、杨宏超、杨小亚、刁建华
24支撑装置及基板退火设备发明专利授权CN202411351739.72024-09-25CN119920747B2025-11-14顾昱、王玉玺、杨宏超、王晖、王坚
25管路拆装工装发明专利授权CN202411028309.12024-07-29CN119927842B2025-12-19杨超繁、贾社娜、张大海
26炉管设备发明专利公布CN202411027169.62024-07-29CN121442982A2026-01-30刘满成、刘权、孙旭海
27排液装置及基板处理设备发明专利公布CN202411028300.02024-07-29CN121432816A2026-01-30徐飞、吴均、隋涛、程成、王晖、李康植
28工艺管及炉管设备发明专利公布CN202411003481.12024-07-24CN121409008A2026-01-27王晖、杨超繁、贾社娜、张大海、全钟赫、沈周燮、金睿娜、尹炡友
29基板热处理装置、热处理方法及涂覆显影设备发明专利公布CN202411002929.82024-07-24CN121419569A2026-01-27吴均、徐飞、那洪亮、王晖、李康植
30凸块电镀方法发明专利公布CN202410980780.42024-07-19CN121363025A2026-01-20王坚、王晖、贾照伟、陆陈华、代兰奎
31基板处理装置及基板处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410914104.72024-07-08CN121310877A2026-01-09王晖、王坚、吴均、杨宏超、杨小亚、刁建华、贾照伟
32半导体冷却装置及半导体湿法刻蚀系统发明专利实质审查的生效、公布CN202410861050.22024-06-28CN121230359A2025-12-30练长均、高耀栋、宋成亮、刘鼎新、何西登、谢潮东、方毅敏
33一种组分分离装置、液体回收设备及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410867969.22024-06-28CN121222097A2025-12-30魏雄飞、石宁、王文军、张晓燕、邓新平
34电镀装置及电镀方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410865294.82024-06-28CN121228330A2025-12-30吴勐、肖炎、杨宏超、贾照伟、王坚、王晖
35基板处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410856154.42024-06-27CN121228332A2025-12-30王晖、王坚、贾照伟、杨宏超、刁建华、肖炎、吴勐
36刷子组件和半导体清洗设备发明专利实质审查的生效、公布CN202410856136.62024-06-27CN121222715A2025-12-30孙建、朱国辉、王晖
37清洁系统及退火装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410854337.22024-06-27CN121222752A2025-12-30刘林波、余齐兴、金一诺、司生辉、宋永灏、王玉玺
38基板边缘刻蚀装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410854349.52024-06-27CN121237674A2025-12-30顾争荣、初振明、王东东、张晓燕、贾福金、向阳
39电镀装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410852582.X2024-06-27CN121228324A2025-12-30花宇、杨宏超、金一诺、王坚、王晖
40加热装置及基板处理设备发明专利实质审查的生效、公布CN202410852574.52024-06-27CN121237673A2025-12-30王晖、贾社娜、苏政、路添竣、陶泽魏、季昆、邓新平
41基板定位装置及基板定位方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410843707.22024-06-26CN121215586A2025-12-26王晖、王坚、贾照伟、杨宏超、杨小亚
42化学气相沉积方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410844357.12024-06-26CN121204634A2025-12-26孙旭海、刘满成
43高温炉管的密封结构及密封方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410825152.92024-06-24CN119845044A2025-04-18吕策、张大海、王晖、沈周燮
44边缘刻蚀位置的控制方法及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410825019.32024-06-24CN121215519A2025-12-26庞博、肖登、初振明、张晓燕、王晖
45边缘清洗装置及边缘清洗方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410816709.22024-06-21CN120237044A2025-07-01王晖、王坚、贾照伟、杨宏超、杨小亚
46用于方形基板的卡盘发明专利实质审查的生效、公布CN202410816350.92024-06-21CN121192043A2025-12-23王晖、王坚、吴均、杨宏超、杨小亚、刁建华
47用于电镀设备的检测方法及检测系统发明专利实质审查的生效、公布CN202410782849.22024-06-17CN121155061A2025-12-19石轶、左经之、任正博、王晖、金一诺
48晶圆处理装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410782703.82024-06-17CN121171920A2025-12-19戴明宇、贺斌、费红财、田连刚、朱志君、金京俊
49立式炉管发明专利实质审查的生效、公布CN202410783591.82024-06-17CN121161259A2025-12-19吕策、王晖、贾社娜、张大海
50薄膜沉积装置及薄膜沉积方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410783053.92024-06-17CN121161269A2025-12-19田连刚、王晖、贺斌、金京俊

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