投资者提问：

公司自主研发的用于存储芯片薄膜沉积和清洗用的半导体设备是否已经量产？

董秘回答(国林科技SZ300786)：

尊敬的投资者，您好。目前，国林半导体公司通过自主研发技术取得了阶段性成果:半导体湿法清洗工艺用臭氧水以及其他配套功能水设备现有客户已经全部验证通过，正在量产持续出货中；薄膜沉积工艺用臭氧气体发生器验证取得了重要突破，目前已小批量出货中；公司将持续开拓新客户。感谢您的关注。

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